О книге
Даны краткие сведения из отдельных разделов физики и смежных наук, составляющих физические основы микро- и нанотехнологий. Рассмотрены основные законы, понятия и определения физических явлений, процессов и сред, являющихся основой этих технологий. Приведены методы преобразования фундаментальных физических законов в прикладные технологические зависимости, расчеты физических закономерностей, определяющих параметры процессов микро- и нанотехнологий.
Для студентов 3-го и 4-го курсов, обучающихся по специальности "Электронное машиностроение".
Список литературы
- Балекин В.И., Иванов А.Н. Основы расчета и конструирования элек-тронных пушек: Конспект лекций. Л.: ЛЭТИ, 1979.
- Березин Г.Н., Никитин А.С., Сурис Р.А. Оптические основы контактной фотолитографии. М.: Радио и связь, 1982.
- Блох А.Г., Журавлев Ю.А., Рыжков Л.Н. Теплообмен излучением: Справ. / М.: Энергоатомиздат, 1991.
- Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии: Пер. с англ. М.: Мир, 1987.
- Вакуумная техника: Справ. / Под ред. Е.С. Фролова, В.Е. Минайчева. М.: Машиностроение, 1992.
- Введение в фотолитографию / Под ред. В.П. Лаврищева. М.: Энергия, 1977.
- Виноградов Ю.В. Основы электронной и полупроводниковой техники: Учеб. для вузов. М.: Энергия, 1972.
- Гудмен Дж. Введение в фурье-оптику: Пер. с англ. М.: Мир, 1970.
- Дулин В.Н. Электронные приборы: Учеб. для вузов. М.: Энергия, 1977
- Ефимов И.Е., Козырь И.Я., Горбунов Ю.И. Микроэлектроника. Физи-ческие и технологические основы, надежность: Учеб. пособие для вузов. М.: Высш. шк., 1986.
- Жигарев А.А. Электронная оптика и электронно-лучевые приборы: Учеб. для втузов. М.: Высш. шк., 1972.
- Исаченко В.П., Осипова В.А., Сукомел А.С. Теплопередача: Учеб. для вузов. М.: Энергоиздат, 1981.
- Ключников А.Д., Иванцов Г.П. Теплопередача излучением в огнетехни-ческих установках. М.: Энергия, 1970.
- Котлецов Б.Н. Микроизображения: Оптические методы получения и контроля. Л.: Машиностроение. Ленингр. отд-ние, 1987.
- Лыков А.В. Теория теплопроводности. М.: Высш. шк., 1967.
- Моро У. Микролитография: В 2 ч.: Пер. с англ. М.: Мир, 1990.
- Пипко А.И., Плисковский В.Я., Пенченко Е.А. Конструирование и рас-чет вакуумных систем. М.: Энергия, 1979
- Пресс В.П. Фотолитография в производстве полупроводниковых при-боров. М.: Энергия, 1968.
- Розанов Л.Н. Вакуумная техника. Учеб. для высш. школы. 2-е изд. С-Пб.: Унивак, 2000.
- Теоретические основы теплотехники. Теплотехнический эксперимент. Справ. / Под ред. В.А. Григорьева, В.М. Зорина. М.: Энергоатомиздат, 1988.
- Теплотехника: Учеб. для вузов / Под ред. В.Н. Луканина. М.: Высш. шк., 2000.
- Фотолитография и оптика / Под ред. Я.А. Федотова. М.: Сов. радио, 1977.
- Электронные, квантовые приборы и микроэлектроника: Учеб. пособие для вузов / Под ред. Н.Д. Федорова. М.: Радио и связь, 1998.
- Modelling projection printing of positive photoresisys / F.N. Dill, A.R. Neureuther, J.A. Tuttle, E.J. Walker // IEEE Transactions on Electron Devices. 1977. V. ED-22, N 7. P. 456–467.
- Novotny D.B. Measurement of the Separation Distance in Contact and Prox-imity Lithography // Journal of Electrochemical Society: Solid State Science and Technology. 1986. V. 136, N 12. P. 2600–2607.
