О книге
Дано описание основных физических явлений при воздействии ускоренных потоков электронов, ионов и газоразрядной плазмы на поверхность обрабатываемых изделий. Рассмотрены ключевые операции изготовления микро- и наноструктур: нанесение тонких пленок в вакууме, вакуумно-плазменное травление и ионная имплантация. Акцентировано внимание на взаимосвязи между характеристиками технологических операций и показателями качества получаемых микро- и наноструктур. Приведены физико-химические модели расчета основных режимов элионной обработки.
Для студентов, обучающихся по направлениям «Наноинженерия» и «Электроника и наноэлектроника».
Список литературы
- Журнал «Нано- и микросистемная техника». URL: http://www.microsystems. ru/literature.php/ (дата обращения 24.09.19).
- Вестник Российского научно-технического вакуумного общества. URL: http://www.vestnik-rvo.ru (дата обращения 24.09.19).
- Solid State Technology Journal. URL: http://www.electroiq.com/semiconductors.html/ (дата обращения 24.09.19)
- Journal of Vacuum Science & Technology a — Vacuum Surfaces and Films. URL: http://avspublications.org/jvsta/ (дата обращения 24.09.19)
- Journal of Vacuum Science & Technology b — Microelectronics and Nano-meter Structures: Processing, Measurement, and Phenomena. URL: http://avspublications.org/jvstb/ (дата обращения 24.09.19).
